Главная     Лента технологий     Каталог технологий     Форум
Навигация






Гость
Имя

Пароль



Вы не зарегистрированны?
Нажмите здесь для регистрации.

Забыли пароль?
Запросите новый здесь.
Травление материала под излучением
ИдеяХимия и химическое производство Суть предложения: При химическом травлении применять реактивы, которые вступают в реакцию с вытравляемым материалом только при наличии какого-либо излучения. Соответственно во время травления осуществлять облучение этим излучением заготовки. Материал маски не будет пропускать излучение, в результате получим ровные почти вертикальные ( в зависимости от ориентации излучателя) края без подтравов, недотравов и перетравов.
При облучении во время травления заготовки под углом 45 гр. возможно образование зеркал для них в одном слое. Соответственно для каждого направления необходимо использовать свой шаблон.

Область применения: микролитография и изготовление печатных плат. Технология может быть использована для создания микроперескопов для перехода со слоя на слой для световодов в оптических микросхемах.
Приемущества: Значительное увеличение точности.
Опубликовал mer May 27 2009 09:29:06 · Для печати